半导体光刻胶反应釜防爆模温机案例

来源:珞石机械浏览:763发布日期:2021-11-18 15:15

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半导体光刻胶反应釜防爆模温机案例

Successful cases

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案例介绍

光刻胶是一种高分子化合物,主要用于微电子制造中的光刻工艺在微电子制造中,光刻胶的应用非常广泛,可以用来制造芯片、光学器件、MEMS(微机电系统) 等微型器件。此案例客户是半导体材料行业。

案例现场

    半导体案例光刻胶 光刻胶控温案例

半导体光刻胶反应釜防爆模温机案例

选用设备

ExdⅡBT4隔离式防爆模温机

产品名称:防爆模温机

机器型号:EUOCBF

设备功率:6KW

功能配置:整机隔离式防爆 EXdII BT4,PLC编程控制,带冷却。

案例特点

反应釜控温光刻胶,使用温度需要150度,反应期间会有放热,所以需要增加冷却功能,设计1 平方( 板式换热器 )。